PVD镀膜设备有哪些
利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点特别具有膜层附着力强、绕性好 、可镀材料广泛等优点。 采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备及
溅射镀膜和蒸发镀膜有什么区别
射频溅射是利用射频辉光放电磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。3、溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比有许多优点 。如任何物质均可以溅射尤其是高熔点低蒸气压的元素和化合物溅射膜与基板之间的附着性好薄膜密度高膜厚可控制和重复性好等 。缺点是设备比较复杂需要高
真空镀膜蒸发溅射
如此看来你的溅镀机上是没有实时监控膜厚系统那没有太好的办法只能通过溅镀一定厚度后测量根据镀膜时间推算溅镀速率。不过要注意的 只要蒸镀参数不变一般溅镀速率不会有太大偏差。但是也要注意维护你的设备让它保持正常稳定运转能不能精确控制厚度关键还在于它的工
你好师傅 我是刚上手的镀膜工 。做的是电子业的晶片镀膜 。问下。在溅射的时候如何准确的控制膜厚。我们公司的镀膜机是比较老的那种 。没有测厚仪器。全凭时间和参考记录来做 。时间也要自己设定 。有的活对膜厚偏差要求比较高 。我想问下怎样才能很好的控制膜厚。请师傅指教一下 。
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